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 【图文导读】图1 用于高密度弹性电路的单片光学微光刻图2双网络介导的导电聚合物的直接光学光刻技术图3 卡本介导的半导体和绝缘聚合物的直接光学光刻技术 图4 单片光学微光刻制造的高密度、经济家级高度均匀的弹性晶体管阵列 图5 弹性功能电路文献链接：经济家级Monolithicopticalmicrolithographyofhigh-densityelasticcircuits（Science，2021，DOI:10.1126/science.abh3551）本文由木文韬翻译，材料牛整理编辑。此外，区企企业还引入了紫外敏感的聚乙二醇二甲基丙烯酸酯（PEGDMA）来实现化学未改性的导电聚合物的双网络介导的直接光刻。

但是，业首优势传统的光刻技术不能适应聚合电子材料（如半导体和导体）的微/纳米加工，因为光刻技术中使用的光刻胶与活性聚合电子材料缺乏化学正交性。相对于传统的刚性电子器件（如硅基器件），次获产权弹性电子器件由于器件密度低，目前在并行信号记录和处理方面受到限制。【成果简介】今日，评国在美国斯坦福大学鲍哲南教授团队等人带领下，评国提出了一种单片光学微光刻工艺，该工艺通过连续紫外光触发的溶解度调制，直接形成一组弹性电子材料的微图案。

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